Catalogue of the offering of equipment used for research, analysis and experimentation activities available in High Technology Network Laboratories. Each item of equipment is shown with its specifications, functional characteristics, location, and method of access.

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La spettroscopia di emissione al plasma (ICP-OES) è una tecnica di analisi utilizzata per determinare la composizione elementare qualitativa e quan

RA

Permette l'analisi chimica di materiali organici ed inorganici.

RA

Lo spettrofotometro Jenway 6300 è uno strumento con una lampada alogena al tungsteno come fonte di luce in grado di lavorare ad una definita lunghe

RN

Lo spettrofotometro NanoDrop fornisce una analisi spettroscopica UV-Vis completa utilizzando microvolumi di soluzione (1-2 microL) ed è partic

RA

Range di lunghezze d’onda: 220 – 3000 nm

Risoluzione ≤ 0.2 nm

Accuratezza UV-Vis ≤ 0.3 nm

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Implementazione di metodiche eco-tossicologiche ai fini della predisposizione di Chemical Safety Report

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Spettrofotometro visibile da banco per determinazioni di assorbimento di soluzioni nel campo visibile e determinazione del COD di soluzioni di inqu

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ICP simultaneo, con ottica ad elevata risoluzione, protetta dalla polvere con un sistema di flussaggio di gas inerte.

RA

Implementazione di metodiche analitiche ai fini della predisposizione di Chemical Safety Report.

RA

Determinazione di inquinanti in matrici ambientali per il monitoraggio di fonti di contaminazione

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Lo strumento consente la determinazione dei composti metallici.

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Lo strumento consente la determinazione dei composti metallici.

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Caratterizzazione di matrici naturali e di sintesi

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Analisi multi elemento per la determinazione quantitativa di metalli in campioni ambientali

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Analisi della composizione chimica di metalli e designazione delle leghe metalliche (acciai non legati, legati, inox, ghise, leghe di alluminio).

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Strumento per la misura del potenziale zeta di dispersioni colloidali a base acquosa anche concentrate (0.1-50% in volume in relazione al campione)

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Sistema di deposizione per spin coating per substrati di dimensioni fino a 150mm.

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Stampante 3D in grado di realizzare manufatti polimerici e ceramici, lavorando rispettivamente in modalità FFF o DIW.

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La stampante 3D, basata su tecnologia di Liquid Deposition Modeling (LDM), nasce per la stampa di oggetti in argilla o porcellana, ma grazie alle p

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