E’ il catalogo dell’offerta di apparecchiature utilizzate per attività di ricerca, analisi e sperimentazione presenti nei Laboratori della Rete Alta Tecnologia.
Per ogni attrezzatura sono riportate caratteristiche, funzionalità, localizzazione e modalità di accesso.
Analisi su polveri,
Analisi a temperatura ambiente,
Lampada RX: PW2273/20
Range temperatura con RCS:
[-90; +450]°C
Range temperatura con FACS:
[25; +725]°C
Strumento in grado di produrre forze meccaniche di pressione e utile per studi in vitro sulla risposta cellulare a tali stimoli
High temperature and high performance test instrument for contactless.
Due celle di carico, fondo scala: 20 e 150 kN
Controllo e Programmazione Mediante PC in carico e corsa
-Pressione massima operativa: 700 bar
-Portata a 50 bar: 8,2 l/min
-Portata a 700 bar: 0,82 l/min
XCEL basic machine including:
X –Y motorized Axis 550 x 600 mm stroke, repeatability ±5 m;
max speed 600mm/sec;
2 celle di carico, con fondi scala:
- 2,5 kN
- 200 kN
1 LVDT per misure di spostamento pistone
Cella di carico, fondo scala: 5000 kN
Controllo e Programmazione Mediante PC in carico
Annesso allo strumento si aggiunge la possibilità ad accedere alla strumentazione necessaria per la preparazione dei campioni come l'ultramicrotomo
Strumento configurato per acquisizioni veloci, e tramite ultrarisoluzione (SIM), su campioni fissati e vitali in time-lapse, con analisi dello spet
Analisi microtomografica bidimensionale e tridimensionale pe la caratterizzazione morfologica e strutturale di biomateriali, scaffold e tessuti bio
Range temperatura: 25 - 60 °C,
Range umidità: 50 - 98 % u.r.
Strumento per create vetrini digitali di alta qualità con capacità a cinque vetrini e ingrandimento 20x e 40x
Determinazione del Coefficiente di Frizione Dinamica secondo il metodo BCRA, con utilizzo di pattini di Gomma 4S e Cuoio.
Determinazione del Coefficiente di Frizione Statica secondo la norma ASTM C1028, con Cella di carico a trazione da 25 kg
Misure di scivolamento mediante determinazione del coefficiente d'attrito conforme alle normative EN 1097-8, 1338-1, 1339-1, 14231, 1340-1, 13
Sistema di deposizione da elettroni pulsati (Ionized Jet Deposition) per la deposizione di un layer nanostrutturato su superfici