Impianto CVI/CVD (Chemical Vapour Infiltration/Deposition)

Descrizone

I principali componenti dell’impianto CVD/CVI sono:

- il forno in vuoto, costituito da una resistenza trifase in grafite e da uno schermo termico in feltro in fibra di carbonio (Sigratherm), contenuti in una camera da vuoto in acciaio AISI 304 raffreddata ad acqua; la temperatura massima di esercizio è 1600 °C e le dimensioni utili della camera di reazione sono 300 mm di diametro e 700 mm di altezza;

- il gruppo di pompaggio per il mantenimento del vuoto, costituito da una pompa rotativa volumetrica a secco (Edwards mod. GV250) e da una pompa Booster volumetrica di tipo Roots (Edwards mod. EH2600); la pressione minima raggiungibile all’interno del forno è di circa 0,1 mbar;

- lo Scrubber, sistema di abbattimento di acido cloridrico, collegato all’uscita del gruppo di pompaggio;

 

- sistemi per la gestione del processo e di acquisizione dati e sistema di allarmi.

 

Funzionalità

L’impianto pilota CVD/CVI è impiegato per la produzione di compositi ceramici rinforzati con fibre lunghe (C/Cf e SiC/SiCf). La tecnologia è quella dell’infiltrazione chimica in fase vapore di preforme costituite dalla sovrapposizione di tessuti 2D di fibre ceramiche. L’obiettivo è la produzione di compositi ceramici ad elevate prestazioni per applicazioni ad alta temperatura.

 

 

Marca e modello
Costruttore: VLT s.r.l Modello: CVI-CVD 02
Quantità
1
Laboratorio
Unità operativa
ENEA-TEMAF
Modalità di accesso

Accesso riservato ai soli ricercatori del laboratorio

Condizioni di utilizzo

- Progetti di ricerca

- Contratti di ricerca

- Accordi di collaborazione

 

Referenti
Federica Burgio
Sede attrezzatura
ENEA-TEMAF , Via Ravegnana, 186 Faenza(RA) Tel: 0546678544
Ultimo aggiornamento
13/04/2023