Catalogo delle attrezzature

Descrizone

I principali componenti dell’impianto CVD/CVI sono:

- il forno in vuoto, costituito da una resistenza trifase in grafite e da uno schermo termico in feltro in fibra di carbonio (Sigratherm), contenuti in una camera da vuoto in acciaio AISI 304 raffreddata ad acqua; la temperatura massima di esercizio è 1600 °C e le dimensioni utili della camera di reazione sono 300 mm di diametro e 700 mm di altezza;

- il gruppo di pompaggio per il mantenimento del vuoto, costituito da una pompa rotativa volumetrica a secco (Edwards mod. GV250) e da una pompa Booster volumetrica di tipo Roots (Edwards mod. EH2600); la pressione minima raggiungibile all’interno del forno è di circa 0,1 mbar;

- lo Scrubber, sistema di abbattimento di acido cloridrico, collegato all’uscita del gruppo di pompaggio;

- sistemi per la gestione del processo e di acquisizione dati e sistema di allarmi.

Funzionalità

L’impianto pilota CVD/CVI è impiegato per la produzione di compositi ceramici rinforzati con fibre lunghe (C/Cf e SiC/SiCf). La tecnologia è quella dell’infiltrazione chimica in fase vapore di preforme costituite dalla sovrapposizione di tessuti 2D di fibre ceramiche. L’obiettivo è la produzione di compositi ceramici ad elevate prestazioni per applicazioni ad alta temperatura.