Sistema di deposizione PVD tramite Magnetron Sputtering
Deposizione PVD di film sottili a partire da target sia ceramici che metallici tramite RF e DC magnetron sputtering, sputtering reattivo (N2 atmosphere).
Campi di applicazione : Crescita di film sottili.
Quantità
1
Laboratorio
Unità operativa
Laboratorio di sintesi fisica di film sottili e nanoparticelle e caratterizzazione con spettroscopie
Modalità di accesso
L'accesso aal sistema di deposizione PVD, anche all’interno di un contratto di fornitura di servizio a tariffario, e’ competenza del personale CNR NANO S3 e non e’ previsto il coinvolgimento diretto del committente (modalita’ self- service)
Condizioni di utilizzo
L'utilizzo del sistema per analisi chimica di superficie XPS e' aperto agli esterni in due modalita' :
a) tramite contratti o commesse di ricerca
b) come servizio a tariffario
Referenti
Alessandro di Bona
Sede attrezzatura
CNR-NANO S3, Via campi 213a Modena(MO) Tel: +39 059 2055242
Ultimo aggiornamento
04/04/2022