Catalogue of the offering of equipment used for research, analysis and experimentation activities available in High Technology Network Laboratories. Each item of equipment is shown with its specifications, functional characteristics, location, and method of access.
Analisi su polveri,
Analisi a temperatura ambiente,
Lampada RX: PW2273/20
Range temperatura con RCS:
[-90; +450]°C
Range temperatura con FACS:
[25; +725]°C
Strumento in grado di produrre forze meccaniche di pressione e utile per studi in vitro sulla risposta cellulare a tali stimoli
High temperature and high performance test instrument for contactless.
Due celle di carico, fondo scala: 20 e 150 kN
Controllo e Programmazione Mediante PC in carico e corsa
-Pressione massima operativa: 700 bar
-Portata a 50 bar: 8,2 l/min
-Portata a 700 bar: 0,82 l/min
XCEL basic machine including:
X –Y motorized Axis 550 x 600 mm stroke, repeatability ±5 m;
max speed 600mm/sec;
2 celle di carico, con fondi scala:
- 2,5 kN
- 200 kN
1 LVDT per misure di spostamento pistone
Cella di carico, fondo scala: 5000 kN
Controllo e Programmazione Mediante PC in carico
Annesso allo strumento si aggiunge la possibilità ad accedere alla strumentazione necessaria per la preparazione dei campioni come l'ultramicrotomo
Strumento configurato per acquisizioni veloci, e tramite ultrarisoluzione (SIM), su campioni fissati e vitali in time-lapse, con analisi dello spet
Analisi microtomografica bidimensionale e tridimensionale pe la caratterizzazione morfologica e strutturale di biomateriali, scaffold e tessuti bio
Range temperatura: 25 - 60 °C,
Range umidità: 50 - 98 % u.r.
Strumento per create vetrini digitali di alta qualità con capacità a cinque vetrini e ingrandimento 20x e 40x
Determinazione del Coefficiente di Frizione Dinamica secondo il metodo BCRA, con utilizzo di pattini di Gomma 4S e Cuoio.
Determinazione del Coefficiente di Frizione Statica secondo la norma ASTM C1028, con Cella di carico a trazione da 25 kg
Misure di scivolamento mediante determinazione del coefficiente d'attrito conforme alle normative EN 1097-8, 1338-1, 1339-1, 14231, 1340-1, 13
Sistema di deposizione da elettroni pulsati (Ionized Jet Deposition) per la deposizione di un layer nanostrutturato su superfici