Catalogue of the offering of equipment used for research, analysis and experimentation activities available in High Technology Network Laboratories. Each item of equipment is shown with its specifications, functional characteristics, location, and method of access.
La spettroscopia di emissione al plasma (ICP-OES) è una tecnica di analisi utilizzata per determinare la composizione elementare qualitativa e quan
Permette l'analisi chimica di materiali organici ed inorganici.
Lo spettrofotometro NanoDrop fornisce una analisi spettroscopica UV-Vis completa utilizzando microvolumi di soluzione (1-2 microL) ed è partic
Range di lunghezze d’onda: 220 – 3000 nm
Risoluzione ≤ 0.2 nm
Accuratezza UV-Vis ≤ 0.3 nm
Spettrofotometro visibile da banco per determinazioni di assorbimento di soluzioni nel campo visibile e determinazione del COD di soluzioni di inqu
Strumento per la misura del potenziale zeta di dispersioni colloidali a base acquosa anche concentrate (0.1-50% in volume in relazione al campione)
Sistema di deposizione per spin coating per substrati di dimensioni fino a 150mm.
Stampante 3D in grado di realizzare manufatti polimerici e ceramici, lavorando rispettivamente in modalità FFF o DIW.
Stazione multi-tecnica per la produzione di film spessi mediante tecnica spray o dispensing e film sottili mediante inkjet printing.
Stereomicroscopio attrezzato con camera digitale CMOS 5.1 Mpixels, n.
Le misure vengono effettuate secondo lo standard BS EN 843-2 che descrive i metodi per la determinazione dei moduli elastici, specificatamente, il
Stufa Ventilazione Forzata 300.C - Capacità 200 litri - TCF 200 Plus 41100222