Catalogue of the offering of equipment used for research, analysis and experimentation activities available in High Technology Network Laboratories. Each item of equipment is shown with its specifications, functional characteristics, location, and method of access.

Results: 18
Name
Description
Laboratory
Province

3He insert, temperature di lavoro da 300mK sino a 400K , campo magnetico sino a 7 Tesla. Campi di applicazione: Caratterizzazione di materiali.

FE

Sistema in Ultra-alto-vuoto per analisi di superfici ed interfacce tramite spettroscopia XPS, UPS, HREELS e LEED a bassa corrente dotato di sistemi

MO

Il sistema per analisi chimica di superficie tramite X-Ray Photoemission Spectroscopy (XPS)  e' costituito da una sorgente a doppio anodo Mg/Al (en

MO

Sistema per analisi chimica di superficie tramite X-Ray Photoemission Spectroscopy (XPS) e sistema Auger a scansione con alta risoluzione.

MO

Analizzatore di impedenza di rete alle microonde.

Campi di applicazione: Telecomunicazioni e microonde

MO

Sistema per studio di monostrati di molecole anfifiliche.

MO

Il sistema e' composto da un Fascio Ionico Focalizzato (FIB) e da un Microscopio Elettronico a scansione (SEM) combinati e confocali.

MO

Sistema per microscopia a scansione di sonda che lavora sia in modalità AFM (Atomic Force Microscope) che STM (Scanning Tunneling Microscope) .

MO

Microscopio a forza atomica (AFM) per lo studio di superfici e per la caratterizzazione meccanica di materiali biologici su scala nanometrica.

MO

Microscopio ottico dotato di Epi-fluorescenza, Contrasto interferenziale (DIC, fase), 60x immersione in olio, telecamera CCD raffreddata.

MO

Sistema per microscopia STM (Scanning Tunneling Microscope) con risoluzione atomica sia su campioni conduttori che isolanti.

MO

Apparato per la caratterizzazione del folding e misfolding di singole proteine, e dei meccanismi attraverso i quali singole biomolecole interagisco

MO

Esperimenti in campo magnetico e sotto l'azione di campi em con frequenze sino a 20 GHz. Esperimenti a basse temperature.

MO

Deposizione PVD di film sottili a partire da target sia ceramici che metallici tramite RF e DC magnetron sputtering, sputtering reattivo (N2 atmosp

MO

Sistema di litografia a fascio elettronico e microscopio elettronico a scansione.

MO

Misure di caratterizzazione elettrica su nanodispositivi con basso rumore e con possibilità di lavorare a temperatura variabile e in vuoto. 

MO

Sistema per la crescita fisica e la deposizione di nanocluster metallici, compositi e semiconduttori (2-20 nm in diametro) preformati e selezionati

MO

Banco ottico per spettrofotometria.

Campi di applicazione : Caratterizzazione ottica di film sottili.

MO