Catalogue of the offering of equipment used for research, analysis and experimentation activities available in High Technology Network Laboratories. Each item of equipment is shown with its specifications, functional characteristics, location, and method of access.
L’estrusione è un processo di formatura che permette la realizzazione di manufatti in verde con geometrie non complesse ed a sezione costante.
Lo strumento permette di misurare la fluorescenza e la luminescenza da campioni in piastre adatte con un numero di pozzetti compreso fra 6 e 384.
Per cicli di densificazione o di cottura di materiali ceramici.
Trattamenti in atmosfera inerte o pressione di gas (fino a 100 bar) fino a una temperatura di 2200°C
Utilizzato per eseguire la dissoluzione dei campioni per la preparativa ICP
Microonde per sintesi chimiche a pressione ambiente e in pressione, dotato di modulazione automantica della potenza (max 1000 W) erogata da 2
La camera interna è interamente costruita in tungsteno e molibdeno.
Per trattamenti fino a 1600°C in atmosfera riducente (4% H2/Ar) con sistema di pre-riscaldamento del gas in entrata, adatto per trattamenti su meta
Misura l'illuminamento, la luminanza, il PAR e l'irradiamento nelle regioni spettrali VIS-NIR, UVA, UVB, UVC o nella misura dell'irradiamento effic
Fotoreattore con capacità 6L per test di fotodegradazione di inquinanti organici ad opera di fotocatalizzatori, possibilità di illuminazione in imm
Consiste in un processo di spray in azoto liquido a partire da sospensioni nano/micrometriche.
High temperature and high performance test instrument for contactless.
Strumento basato sulla diffusione della luce che consente di determinare la distribuzione granulometrica di particelle nanometriche disperse in un
Due celle di carico, fondo scala: 20 e 150 kN
Controllo e Programmazione Mediante PC in carico e corsa
-Pressione massima operativa: 700 bar
-Portata a 50 bar: 8,2 l/min
-Portata a 700 bar: 0,82 l/min
XCEL basic machine including:
X –Y motorized Axis 550 x 600 mm stroke, repeatability ±5 m;
max speed 600mm/sec;
Nell’ambito dei ceramici avanzati la serigrafia è la tecnica principale per la produzione industriale di film spessi (strati di spessori intermedi
2 celle di carico, con fondi scala:
- 2,5 kN
- 200 kN
1 LVDT per misure di spostamento pistone