MISTER ha accesso alla Clean Room per Sensori e Microsistemi dell’IMM di Bologna.
L’Istituto IMM di Bologna ha la più grande facility pubblica in Italia per la micro e nano fabbricazione di dispositivi in silicio e altri materiali; essa consiste in 500 m2 di Clean roon di cui 250 m2 di classe 100 e 250 m2 di classe 1000 e 100000.
Nella camera Bianca sono disponibili tutte le principali tecnologie necessarie per la fabbricazione di MEMS (Micro-Electro- Mechanical-System), NEMS(Nano-Electro-Mechanical-System) e MOEMS (Micro-Optical- Electro-Mechanical-System).
La clean room dispone di:
- Attrezzature per il coating di substrati fino a 4″ con fotoresist ed altri prodotti depositabili per spinning.
- Sistemi di nano litografia FIB/EBL Zeiss/Raith modello CROSSBEAM 340
- Plasma in ossigeno a microonde per la pulizia di campioni da residui organici quali fotoresist.
- Sistemi litografici a contatto per il trasferimento di pattern micrometrici su substrati da 4″
- Sistemi di attacco RIE C-MOS compatibile per dielettrici e silicio, RIE compatibile con metalli e silicio e D-RIE per Silicio e Ossido di silicio
- Microscopio ottico Nikon e relativo software per la cattura e manipolazione delle immagini.
- Sistema di Wafer Bonding
- Sistemi di sputtering ad alto vuoto per la deposizione di film sottili metallici e non
- Evaporatore a fascio elettronico che permette la deposizione di film sottili anche su più substrati contemporaneamente grazie alla presenza di un sistema di clamping a planetario.
- Forni per il trattamento ad alta temperatura
- Sistemi di deposizione LPCVD di silicio policristallino, Si3N4, LTO e TEOS
Uso a titolo gratuito sulla base di accordi di collaborazione di ricerca.
Fatturazione in base a contratto forfettario.
Da parte del personale del laboratorio incaricato dell'impiego dell'attrezzatura
senza la partecipazione diretta dell'utente