E’ il catalogo dell’offerta di apparecchiature utilizzate per attività di ricerca, analisi e sperimentazione presenti nei Laboratori della Rete Alta Tecnologia.
Per ogni attrezzatura sono riportate caratteristiche, funzionalità, localizzazione e modalità di accesso.
Il sistema e' composto da un Fascio Ionico Focalizzato (FIB) e da un Microscopio Elettronico a scansione (SEM) combinati e confocali.
Sistema per microscopia a scansione di sonda che lavora sia in modalità AFM (Atomic Force Microscope) che STM (Scanning Tunneling Microscope) .
Microscopio a forza atomica (AFM) per lo studio di superfici e per la caratterizzazione meccanica di materiali biologici su scala nanometrica.
Microscopio elettronico in trasmissione con enclosure anti vibrazione, sistemi ausiliari per elettronica e raffreddamento. Lo strumento
Microscopio ottico dotato di Epi-fluorescenza, Contrasto interferenziale (DIC, fase), 60x immersione in olio, telecamera CCD raffreddata.
Sistema per microscopia STM (Scanning Tunneling Microscope) con risoluzione atomica sia su campioni conduttori che isolanti.
Apparato per la caratterizzazione del folding e misfolding di singole proteine, e dei meccanismi attraverso i quali singole biomolecole interagisco
Misure di segnali elettrici fino a 100 MHz, decodifica di bus di comunicazione seriale
Esperimenti in campo magnetico e sotto l'azione di campi em con frequenze sino a 20 GHz. Esperimenti a basse temperature.
Questo termometro a infrarossi a doppio laser identifica la temperatura IR in cui il doppio laser converge in un unico punto a circa 50” dal bersag
Misura di stabilità di sospensioni catalitiche e di granulometria submicronica
Misura delle caratteristiche elettrochimiche di celle a combustibile
Reometro ad alti sheare rate per l'analisi reologica di inchiostri catalitici e sistemi per celle a combustibile, elettrolizzatori e compressori el
Reometro rotazionale a piatti paralleli e piatto cono per l'analisi reologica di inchiostri catalitici e sistemi per celle a combustibile, elettrol
Deposizione PVD di film sottili a partire da target sia ceramici che metallici tramite RF e DC magnetron sputtering, sputtering reattivo (N2 atmosp