Catalogue of the offering of equipment used for research, analysis and experimentation activities available in High Technology Network Laboratories. Each item of equipment is shown with its specifications, functional characteristics, location, and method of access.
2 celle di carico, con fondi scala:
- 2,5 kN
- 200 kN
1 LVDT per misure di spostamento pistone
Cella di carico, fondo scala: 5000 kN
Controllo e Programmazione Mediante PC in carico
Il sistema e' composto da un Fascio Ionico Focalizzato (FIB) e da un Microscopio Elettronico a scansione (SEM) combinati e confocali.
Sistema per microscopia a scansione di sonda che lavora sia in modalità AFM (Atomic Force Microscope) che STM (Scanning Tunneling Microscope) .
Microscopio a forza atomica (AFM) per lo studio di superfici e per la caratterizzazione meccanica di materiali biologici su scala nanometrica.
Microscopio elettronico in trasmissione con enclosure anti vibrazione, sistemi ausiliari per elettronica e raffreddamento. Lo strumento
Microscopio ottico dotato di Epi-fluorescenza, Contrasto interferenziale (DIC, fase), 60x immersione in olio, telecamera CCD raffreddata.
Sistema per microscopia STM (Scanning Tunneling Microscope) con risoluzione atomica sia su campioni conduttori che isolanti.
Range temperatura: 25 - 60 °C,
Range umidità: 50 - 98 % u.r.
Apparato per la caratterizzazione del folding e misfolding di singole proteine, e dei meccanismi attraverso i quali singole biomolecole interagisco
Esperimenti in campo magnetico e sotto l'azione di campi em con frequenze sino a 20 GHz. Esperimenti a basse temperature.
Determinazione del Coefficiente di Frizione Dinamica secondo il metodo BCRA, con utilizzo di pattini di Gomma 4S e Cuoio.
Determinazione del Coefficiente di Frizione Statica secondo la norma ASTM C1028, con Cella di carico a trazione da 25 kg
Misure di scivolamento mediante determinazione del coefficiente d'attrito conforme alle normative EN 1097-8, 1338-1, 1339-1, 14231, 1340-1, 13
Deposizione PVD di film sottili a partire da target sia ceramici che metallici tramite RF e DC magnetron sputtering, sputtering reattivo (N2 atmosp
Sistema di litografia a fascio elettronico e microscopio elettronico a scansione.
Misure di caratterizzazione elettrica su nanodispositivi con basso rumore e con possibilità di lavorare a temperatura variabile e in vuoto.
Sistema per la crescita fisica e la deposizione di nanocluster metallici, compositi e semiconduttori (2-20 nm in diametro) preformati e selezionati
Banco ottico per spettrofotometria.
Campi di applicazione : Caratterizzazione ottica di film sottili.
ICP simultaneo, con ottica ad elevata risoluzione, protetta dalla polvere con un sistema di flussaggio di gas inerte.